硼(B):硼一般存在于海水中,其含量可達(dá)5mg/L.內(nèi)陸咸水湖中含量更低。硼不是污染源,但由于在某些使用環(huán)境中會造成不利影響,因此在電子工業(yè)中必須去除。硼的化學(xué)性
質(zhì)類似于硅,pH值高于10狀態(tài)下,它以單價硼酸根陰離子形式存在,pH值低于10狀態(tài)下,它
以非離子化的硼酸B(OH)3形式存在,硼酸鹽的去除率與pH值有關(guān),pH值高時,去除率也高。
二氧化硅(SiO2):二氧化硅在某種情況下是一個陰離子。它的化學(xué)性質(zhì)很復(fù)雜,
甚至是不可預(yù)測的。 TOC(以碳計)表示有機物總量而未指明有機物的構(gòu)成,同樣,硅濃度
僅表示了硅的總濃度,但沒有指明硅的各種構(gòu)成的濃度。 水中的硅總量中包括活性硅與膠體
硅?；钚怨枋强扇芄?它被弱電離且未聚合成長鏈。活性硅是RO與離子交換工藝中希望的
形式,也是IMSDesign軟件所使用的二氧化硅的形式。雖然活性二氧化硅有陰離子特性,但
在水質(zhì)分析中它未以陰離子方式計入陰陽離子平衡,卻以鹽的形式計入TDS。膠體硅是聚合
硅或膠體狀,就其性質(zhì)而言更接近固體。 膠體硅可以被RO系統(tǒng)去除,但可能在RO前端造成
膠體污染。膠體硅的直徑可小到0.008微米,但只有大于或等于0.45微米的部分才能用SDI來測量。粘土、淤泥、沙石等微粒狀的硅混合物一般有1微米或更大的直徑,可用SDI儀測量。在使用硅分散劑條件下,活性硅的溶解度限值為100-150%。溫度的升高、pH值在7.0以下或7.8以上均會使硅的溶解度上升,對硅聚合起催化作用的鐵離子存在時,活性硅溶解度下降。在RO系統(tǒng)中,硅的脫除率與原水pH值密切相關(guān),隨pH值的增加,該脫除率也增加,這是因
為活性硅更多的是以鹽的形式存在,而不是酸的形式。
二氧化碳(CO2):二氧化碳為氣體,當(dāng)溶于水時與水反應(yīng)生成弱碳酸(H2CO3).
如純水中二氧化碳處于飽和狀態(tài),其濃度約為1600mg/L,pH值約為4.0。自然界水體中二氧
化碳的來源是基于pH值的碳酸氫根平衡。水體中的二氧化碳濃度間接的決定于pH值與碳酸氫根濃度的對應(yīng)關(guān)系。二氧化碳與碳酸氫根離子在pH值的4.4-8.2區(qū)間保持平衡。 pH值為4.4時均為二氧化碳,pH值為8.2時均為碳酸氫根。IMSDesign程序運用碳酸氫根濃度與pH值計算水中二氧化碳濃度。 由于二氧化碳為氣體,RO膜對其不具有脫除或濃縮作用,其濃度在給水、產(chǎn)水與濃水中相同。在給水中加酸將碳酸氫根化為二氧化碳,故而pH值下降。
硫化氫(H2S):硫化氫呈氣態(tài),使給水中有臭蛋氣味。 其0.1mg/L濃度是異味的臨
界值,在3-5mg/L濃度時,具有強烈的異味。硫化氫易于被空氣、氯及高錳酸鉀等氧化劑氧
化成硫。硫的作用類似于膠體污染,用傳統(tǒng)的介質(zhì)過濾器不能去除。 在系統(tǒng)設(shè)計中,建議將
硫化氫保留為氣態(tài),使其穿過RO系統(tǒng)進(jìn)入產(chǎn)水,再對產(chǎn)水進(jìn)行處理并去除。
